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	多通道立式高温处理装置装置概述：本装置用于催化剂或其它待处理样品常压、惰性气氛或其它气氛条件下高温处理试验，使用温度为1200℃，九段程序升温控制。该装置可根据需要配置多通道并联处理单元，每单元包含两路气体进料模块和一路液体进	2022-08-09
	气氛管式高温处理装置装置概述：本装置用于待处理样品惰性气氛或其它气氛条件下高温处理试验，使用温度为1200℃，九段程序升温控制。可根据需要配置多路气体进料模块或液体进料模块，可配置全自动DCS控制系统，实验数据自动采集记录。主	2022-08-09