恶臭废气处理设备-除臭设备

恶臭废气处理设备的常见的方法有生物分解法、活性碳吸附法、等离子法、植物喷洒液除臭法等。以下是几种目前国内外最常见恶臭气体处理的除臭设备 1、等离子除臭设备 等离子法是利用高压电极发射离子及电子，破坏恶臭分子结构的原理，轰击废气中恶臭分子，从而裂解恶臭分子，对低浓度的恶臭气体净化效果明显，在正常运行情况下可达到80%以上，能处理多种臭气充分组成的混合气体，不受湿度的影响，且无二次污染；但用电量大，且还需要清灰，运行维护成本高，对高浓度易燃易爆气体极易引起爆炸。 2、植物喷洒液除臭设备 植物喷洒液除臭法是通过向产生恶臭气体的空间喷洒植物提取液将恶臭气体进行中和、吸收，达到脱臭的目的，除臭效果低浓度可达到50%，不同的臭气选择不同的喷洒液，需经常添加植物喷洒液，且需维护设备，运行维护费用高，易造成二次污染。 3、 微生物分解除臭设备 生物分解法是利用循环水流将恶臭气体中污染物质容于水中，再由水中培养床培养出微生物，将水中的污染物质降解为低害物质，除臭效率可达70%，但受微生物活性影响，培养出来的微生物只能处理一种或几种相近性质的气体，为提高处理效率和稳定运行，必须频繁添加药剂、控制PH值、温度等，这样运行费用相对比较高，投入人工也比较多，而且生物一旦死亡将需要较长时间重新培养。（对比分析表详见附件1） 3、 活性碳吸附除臭设备 活性碳吸附法是利用活性炭内部空隙结构发达，有巨大比表面积原理来吸附通过活性炭池的恶臭气体分子，初期处理效率可达65%，但极易饱和，通常数日即失效，需要经常更换，并需要寻找废弃活性碳的处理办法，运行维护成本很高，适用于低浓度、大风量气体，对醇类、脂肪类效果较明显，但湿度大的废气效果不明显，且容易造成环境二次污染。 4、 紫外光冷燃烧除臭设备 紫外光冷燃烧除臭设备是采用高能UV紫外线，在光解净化设备内，裂解氧化恶臭物质分子链，改变物质结构，将高分子污染物质裂解、氧化为低分子无害物质，其脱臭效率可99%，脱臭效果大大超过国家1993年颁布的恶臭物质排放标准（GB14554-93），能处理氨、硫化氢、甲硫醇、甲硫醚、苯、苯乙烯、二硫化碳、三甲胺、二甲等高浓度混合气体，设备寿命在十年以上，该净化技术可靠且非常稳定，净化设备无须日常维护，只需接通电源即可正常使用，且运行成本低，无二次污染。紫外光冷燃烧除臭设备适用范围：食品加工厂、肉类加工厂、屠宰场、家禽饲料场、造纸厂、污水处理厂、垃圾转运站、粪便处理等有机和无机物恶臭气体的脱臭净化处理。炼油厂、橡胶厂、皮革厂、印刷厂、化工厂、中西药厂、金属铸造厂、塑料再生厂、喷涂溶剂等有机和无机物恶臭气体的脱臭净化处理。

恶臭废气处理设备的工艺流程废气通过引风机抽出，进入水触媒式光分解臭气处理设备，在经过1.2s的光分解后，再进入厂方原有的喷淋塔内，在喷淋塔内完成裂解反应过程，再达标排放、（1）：恶臭气体净化处理的工艺图：             集气罩-----抽出管道-----风机-----水触媒光催化设备------反应管道-----排放口（2）：恶臭气体净化处理的工艺流程图：

 技术原理QL-GCH-2000水触媒式臭气处理设备技术原理：(1)、本产品利用特制的高能高臭氧双频紫外线光束照射恶臭气体，改变恶臭气体如：丙酮、氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC类，苯、甲苯、二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子无臭无害化合物、CO2和H2O。(2)、臭氧产生利用高能紫外线光束，使空气中产生大量的自由电子，这些电子大部分能被氧气所获得，形成负氧离子（O3－），负氧离子不稳定，很容易失去一个电子而变成活性氧（臭氧），臭氧是高级氧化剂，既可以氧化分解有机物和无机物，对主要臭气氨、三甲胺、硫化氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳、苯乙烯等，都可以与臭氧发生反应，在臭氧的作用下，这些恶臭气体由大分子物质被分解为小分子物质，直至矿化。臭氧产生过程如下式所示：2、·OH (羟基自由基)的产生：本设备同时可利用紫外光束与纳米级TiO2的作用产生·OH，溶于水中的臭氧也可产生·OH。·OH(羟基自由基)是*活性的氧化剂之一，氧化能力明显高于普通氧化剂，与恶臭气体反应，矿化程度更高。几种氧化剂的氧化电位比较见下表：

氧化剂	反应	氧化电位/V
·OH	·OH+H++e-→H2O	3.06
O3	O3+2H++2e-→O2+H2O	2.07
H2O2	H2O2+2H++2e-→2H2O	1.77
HClO	HClO+H++2e-→Cl-+H2O	1.63
Cl2	Cl2+2e-→2Cl-	1.36

  (3)、光照分解恶臭气体利用排风设备输入到本净化设备后，净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应，使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出室外。(4). TiO2光催化机理TiO2光催化材料作为一种N型半导体催化剂，它的禁带宽度为3.2EV。当它收到波长等于或小于387.5NM的光照射时，价带的电子就会受到激发进入导带，同时会在价带上形成对应的空穴，即产生光生电子-空穴对。光生电子(e-)具有很强的氧化还原能力，它不仅可以将吸附在半导体颗粒表面的有机物活化氧化，还能使半导体表面的电子受体被还原。而受激发产生的光生空穴(h+)则是良好的氧化剂，一般会通过与化学吸附水（H2O）或表面羟基（OH-）反应生成具有很强氧化能力的羟基自由基（•OH）。研究表明羟基自由基几乎能够氧化所有有机物并使之矿化设备所产生紫外线光束与纳米级TiO2的作用产生·OH。 (5)、光照分解原理利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，*达到脱臭及杀灭细菌的目的。设备内分解氧化过程在1-2秒内完成。为达到最佳净化效果，经过JF-2000触媒式光分解臭气处理设备处理后需有6秒反应时间。